Obiettivo per lo sputtering di tungsteno forgiato ad alta densità di alta qualità e di alta purezza

Obiettivo per lo sputtering di tungsteno ad alta densità ad alta purezza di alta qualità

Gli obiettivi di sputtering di tungsteno sono un tipo di materiale utilizzato in un processo chiamato sputtering, che viene utilizzato per depositare film sottili di materiali su un substrato.Lo sputtering è un processo in cui gli atomi del materiale bersaglio vengono espulsi e depositati su un substrato, creando un film sottile.

I bersagli per lo sputtering del tungsteno sono realizzati con tungsteno di alta purezza e sono utilizzati per applicazioni che richiedono un rivestimento altamente resistente all'usura e termicamente stabile.Sono comunemente utilizzati nei semiconduttori, industria aerospaziale e medica.

Alcune delle caratteristiche e applicazioni degli obiettivi di sputtering a tungsteno includono:

Punto di fusione elevato: il tungsteno ha un punto di fusione molto elevato, il che lo rende una scelta ideale per applicazioni che richiedono una resistenza ad alte temperature.

Alta densità: il tungsteno è un materiale molto denso, che lo rende un'ottima scelta per applicazioni che richiedono un alto tasso di deposizione di massa.

Buona conduttività termica: il tungsteno ha una buona conduttività termica, il che lo rende utile per applicazioni che richiedono una dissipazione del calore efficiente.

Resistenza all'usura: Il tungsteno è altamente resistente all'usura, rendendolo un'ottima scelta per applicazioni che richiedono un rivestimento resistente.

Alta purezza: gli obiettivi di sputtering del tungsteno sono realizzati con tungsteno di alta purezza, il che li rende adatti per applicazioni che richiedono un elevato livello di purezza, come la produzione di semiconduttori.

Nel complesso, i bersagli per lo sputtering di tungsteno sono un materiale di alta qualità che è adatto per una vasta gamma di applicazioni che richiedono un rivestimento altamente stabile, resistente all'usura e conduttivo termicamente.